목적
이온원에서 20 ~ 50keV로 인출된 빔을 10 ~ 100keV로 다시 가속시켜, 다축지그 위에 설치한 표적에 조사하여 표적물질의 표면개질 특성을 향상 시킬 수 있도록 만든 장치.

특징
1) 표면의 치수변동없이 표면의 특성변화
2) 표면경화처리 후 밀착 및 내구성 향상
3) 기계적 및 전기적 특성향상
   ( 표면경도, 내마모성, 마찰계수, 내피로성, 인성, 내부식성, 내산화성, 전기전도성 )